前段时间美国对华为打压让宽大国人再次体会到了“落伍就要挨打”滋味，很难想象，21世纪的中国，天下第二大经济体的企业，还会由于太壮大而遭遇野蛮打压。说到底，照样我们在科技和工业行业的底子薄，还没有确立完善的工业体系，尤其是在要害焦点产业上我们没有话语权，一旦国际形势有变，就会受制于人。

拿华为来说，在通讯装备领域和5G网络领域做到了天下最强，芯片设计营业也做到了亚洲第一大芯片设计企业，然则在芯片制造上却被美国“卡住了脖子”，导致华为陷入芯片断供的风险。

这是华为还不够强吗？并不是！半导体产业是一个分工明确门类重大的完整工业链，绝非一家企业就可以所有搞定。制造一颗芯片，需要芯片架构授权、设计以及制造三大环节。其中制造环节需要种种高精尖装备才气生产出尖端芯片，好比光刻机、蚀刻机、光刻胶、光罩、封装测试等环节，缺一不可。

以芯片代工巨头台积电为例，它的主要装备光刻机入口自荷兰的ASML（阿斯麦），而ASML的高端光刻机上足有10万个零部件（一台中档轿车约有5000个零件），其中最主要的轴承来自瑞士、光源系统来自美国、镜头来自德国。

可以说，ASML的光刻机就是全球化整合的产物。而这正是中国企业目前所面临的逆境，美国人在行使自身的国际影响力伶仃中国企业！

其实在半导体产业海内企业从未停下起劲的脚步，然则正由于美国人的阻挠导致难有大的突破。中芯国际2018年头曾斥资1.2亿美元购买了一台ASML顶级的EUV光刻机，但一直到现在都没有完成交付。导致大陆半导体制造企业在7纳米以下制造工艺的手艺演进泛起卡壳。

当中国半导体行业陷入漆黑而外界都指望不上的时刻，中国科学院站了出来，用实力打破ASML的光刻机垄断。最近中科院在官网上刊登了一篇报道，中科院苏州纳米手艺与纳米仿生研究所张子�D团队实现了5纳米超高精度光刻手艺的突破。

据报道显示，张子�D团队开发了一种新型三层堆叠薄膜结构，接纳双激光束交叠手艺，通过正确控制能量密度及步长，实现了5纳米的特征线宽。值得注意的是，这是与ASML的EUV极紫外光刻手艺完全差别的手艺门路。也就是说，未来我们的半导体产业有可能脱节对ASML光刻机的依赖。

固然我们也不能过于乐观，这项手艺还只在实验室完成了突破，从实验室到量产另有很长一段路走。然则这就证明了我们在光刻手艺上的研究是可行的。加倍经济实惠的设施是以这项手艺为筹码让美国人铺开对光刻机的限制。如此一来，华为所面临的芯片逆境就会大大缓解了。

这种情形是有先例的，以往西方国家不仅高端光刻机对中国限制，另有蚀刻机也同样被限制。厥后半导体装备行业的顶级大牛尹志尧从美国回国建立上海中微半导体，经由几年的潜心研究，乐成研发了高端蚀刻机。新闻一经传出，美国相关机构马上铺开了蚀刻机对中国的禁运。

所以说，中科院的这项研究照样不容小觑的。特朗普政府对此也没辙，他们可以阻挡自己控制的高端装备限制对中国出口，但却无法限制中国自力更生，实现自给自足。人人对此有什么看法吗？迎接在谈论区留言我们一起讨论。